隨著光電子產業的迅猛發展，清洗工藝在光電產品中是必不可少的工藝，清洗對產品的質量、精度、外觀等方麵的影響也越來越重要。目前國外廣泛使用的清洗方法是紫外(UV)光清洗，它一方麵能避免由於使用有機溶劑造成的汙染，同時能夠將清洗過程縮短。

一、紫外光清洗的工作原理： 

光清洗技術是利用有機化合物的光敏氧化作用達到去除黏附在材料表麵上的有機物質，經過光清洗後的材料表麵可以達到"原子清潔度"。更詳盡的講：UV光源發射波長為185nm和254nm的光波，具有很高的能量,當這些光子作用到被清洗物體表麵時,由於大多數碳氫化合物對185nm波長的紫外光具有較強的吸收能力, 並在吸收185nm波長的紫外光的能量後分解成離子、遊離態原子、受激分子和中子，這就是所謂光敏作用。空氣中的氧氣分子在吸收了185nm波長的紫外光後也會產生臭氧和原子氧。臭氧對254nm波長的紫外光 同樣具有強烈的吸收作用,臭氧又分解為原子氧和氧氣。其中原子氧是相當活潑的,在它作用下,物體表麵上的碳和碳氫化合物的分解物可化合成可揮發的氣體：二氧化碳和水蒸氣等逸出表麵，從而徹底清除了黏附在物體表麵上的碳和有機汙染物。清洗時，使基板治濕性向上。玻璃基板是以滾輪方式輸送，上方裝置低壓水銀燈產生紫外線照射。玻璃基板所累積紫外線能量愈多，其表麵水接觸愈小，成反比關係。一般STN-LCD製作過程中，需求的玻璃基板累積紫外線能量為300nj/cm2(253.7nm)以上。而彩色STN-LCD及彩色濾光片製作過程中，要求的玻璃基板累積紫外線能量為600nj/cm2(253.7nm)。在TFT-LCD製作過程中，除了低壓水銀燈產生臭氧清洗玻璃外，目前製程的主流是，使用Excimer Lamp,其172nm波長紫外線的高反應性質對玻璃的清洗效率更好。

二、光清洗的特點light clean feature： 

1、是一種摳上磾方式，可在空氣中進行並且在清洗後不必進行幹燥。 

2、可徹底清除物體表麵的碳和有機汙染物。

3、無溶劑揮發及廢棄溶劑的處理問題。

4、保證產品的高可靠性和高成品率。

5、產品表麵清洗處理的均勻度一致。

6、由於光清洗是通過光敏、氧化反應去除物體表麵的碳和有機化合物，所以容易發生氧化的表麵不宜用光清洗方法，隻適對表麵汙垢清洗、不適對汙垢量較多，無機類汙垢清洗。

三、光清洗的技術應用範圍

light clean technology's range of application： 

主要在液晶顯示器件、半導體矽晶片、集成電路、高精度印製電路板、光學器件、石英晶體、密封技術、帶氧化膜的金屬材料等生產過程中采用光清洗方法較為合適。 主要材料：ITO玻璃、光學玻璃、鉻板、掩膜板、拋光石英晶體、矽晶片和 帶有氧化膜的金屬等進行精密清洗處理。 可以去除汙垢：有機性汙垢、人體皮脂、化妝品油脂、樹脂添加劑及聚酰亞胺、石蠟、鬆香、潤滑油、殘餘的光刻膠等。 此UV光源在LCD工藝中又具有UV改質(紫外光表麵質變)的特點，目前在液晶顯示器STN的生產過程中，主要是用在膜處理技術上，對於改善膜與膜之間的密接是非常有效的，如ITO膜與感光膠膜層，TOP塗層與PI塗層等等。另在研究部門又可用來UV改性塑料材料產品，用於納米技術研究，產品經此UV光照射發生化學反應，使產品表麵性質改變。STN-LCD、彩色濾光片及OLED的製作過程中，有些製程設備相當雷同，差別在於製造工藝要求的不同。隨著線路的精細化及產品的彩色比，LCD產業對製造工藝的要求也不斷地提升，而有"工欲善其事，必先利其器"之需求，因此隻有設備能力不斷地精進，才能提高生產的質量與效率。